介紹日章阿思鐵克的產品與技術〜半導體〜
製作用於半導體製造設備的單元件
日章阿思鐵克不僅具有電解拋光研磨之後續工程技術，更具有單元件/配管製作室用的無塵室，所以可在粒子量受到控制的環境下進行製造程序。
亦具備He測漏檢查機器，而可檢測出氣密檢查無法測出的鑄造缺陷。
經驗豐富的EP技術
電解拋光研磨的目的，除了帶來表面平滑化，更可藉由充分去除因拋光研磨或機械加工等造成埋在材料表面下的油分、以及去除表面上的毛絨物，進而形成緻密且鈍態的覆膜。
日章阿思鐵克的電解拋光研磨具有如同鍍鉻般的光芒，這正是緻密、且充分已形成有鈍態化披覆膜的證據。